本文標題:圓柱形試件拋光-元件實驗拋光之影響
信息分類:行業(yè)動態(tài) 新聞來源：未知 發(fā)布時間：2012-10-29 23:09:42
圓柱形試件拋光可以分為好幾種，特別是繞射式元件新型的拋光法，
而各參數(shù)對圓柱件實驗拋光之影響又可細分為改變拋光具內(nèi)孔的安排，確實會影響加工效率、磨粒顆粒越大加工效率較大、拋光液濃度越高所需的時間越少等等；
各參數(shù)對繞射元件實驗拋光之影響分為下列幾項：
(A)工件與拋光具的間隙大小，間隙越大材料移除率小，但尖點高度降低較小，
(B)轉(zhuǎn)速越高材料移除量也越高，但尖點高度降低多，(C)拋光液的濃度越高也會影響材料移除量，也會使得尖點高度下降快。
除此之外，如同前言所講的，UV繞射式拋光法比傳統(tǒng)拋光要來的好，可以由幾次學(xué)長所做出的試件中，然后用VK-9700明顯看出來，
拋光后明顯比拋光前，表面粗操度要來的小，也證明了精密加工的過人之處。
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